HfO2 열처리 온도 및 두께에 따른 RRAM의 전기적 특성

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HfO2 열처리 온도 및 두께에 따른 RRAM의 전기적 특성

소개글 Publish: Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering Volume 18, Issue3, p663~669, 31 March 2014

태그

저항성 메모리
열처리 온도
HfO2 산화층 두께

저작시기 2016-08월

등록일 2016-08-09

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