Home
레포트 트레이드
전공서적 본문검색
캠퍼스톡
AI 자소서
채용공고
로그인
1:1문의
전체
레포트
PPT 템플릿
정리노트
족보
논문
자기소개서
기타
자료등록
장바구니
관리
카테고리
전체
>
전체
The Fabrication of Tin Oxide Films by Atomic Layer Deposition usingTetrakis(Ethylmethylamino) Tin Precursor
소개글
Author: Choi Woon-Seop Organization: Choi Woon-Seop Publish: Transactions on Electrical and Electronic Materials Volume 10, Issue5, p173~176, 31 Oct 2009
태그
Tin oxide
ALD
Precursor
저작시기
2009-10월
등록일
2016-07-14
파일형식
pdf
페이지
3페이지
가격
0원
다운로드
장바구니
관심자료
최근 본 자료
추천 연관자료
Effectiveness Criteria for Methods of Identifying Ionospheric Earthquake Precursors by Parameters of a Sporadic E Layer and Regular F2 Layer
Effects of Polymerization and Spinning Conditions on Mechanical Properties of PAN Precursor Fibers
Hierarchical porous carbon nanofibers via electrospinning
Application of welding simulation to block joints in shipbuilding and assessment of welding-induced residual stresses and distortions
Effects of comonomer with carboxylic group on stabilization of high molecular weight polyacrylonitri